桌面级光刻机将数天工序压缩至数分钟—新闻—科学网

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为降低研究门槛，天工他们已利用该装置测试了新型EUV光刻材料，序压学网图片来源：得克萨斯大学奥斯汀分校

EUV光刻是缩至数分当前先进芯片制造的核心技术，成本更低且更易改造的闻科桌面级设备。最终形成手机、桌面钟新

科技日报北京6月2日电 （记者张佳欣）美国得克萨斯大学奥斯汀分校研究团队开发出一种桌面级极紫外（EUV）光刻装置，光将数加快新材料和新工艺开发。刻机但后续处理过程往往需要数天时间。天工团队对传统EUV光刻系统进行了大幅简化，序压学网其原理是缩至数分利用极紫外光将电路图案“打印”到硅基底上，

现阶段，闻科并结合新型三维纳米打印技术，桌面钟新量子计算和新材料合成等领域。研究团队表示，团队希望进一步提高打印速度和加工复杂度，现有商用EUV光刻机造价通常超过2亿美元，该技术还有望应用于纳米药物、未来还将开展更多实验验证。新技术能并行构建多个纳米层级结构，团队引入一种名为“体积式3D图案化”的新型打印技术。实现更小尺寸半导体结构的制造，仅保留核心组件，进一步降低了半导体芯片制造门槛。除芯片制造外，传统方法虽然曝光打印过程较快，开发出一套体积更小、例如存储芯片和光子器件。相关研究发表于新一期《纳米快报》。通常只能以二维方式逐层堆叠打印，将原本需要数天完成的加工过程压缩至数分钟，电脑等电子设备中的芯片。并自负版权等法律责任；作者如果不希望被转载或者联系转载稿费等事宜，新打印技术突破了这一限制。这项工作目标是降低半导体研究成本，并不意味着代表本网站观点或证实其内容的真实性；如其他媒体、须保留本网站注明的“来源”，

团队称，导致全球仅有少数企业具备使用和研发能力。

与此同时，从而提升芯片计算性能。从而将曝光时间缩短至几分钟。此外，现有的EUV光刻技术在制造三维纳米结构时， 展开全部↓ 收起全部↑